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气氛炉规格尺寸

更新时间:2025-09-12      点击次数:7

气氛炉的种类很多,可按炉体内的气氛分类(F—放热式,X—吸热式,YL—有机液体裂解,D—氮基,A—氨制备,M—木炭,N—氨气,的Q表示气氛)气氛炉的特点是在某一既定温度下,向炉内通入一定成分的人工制备气氛,以达到某种热处理的目的,如气体渗碳,碳氮共渗及光亮淬火,退火,正火等。为了控制炉内的气氛,维持炉内的压力,炉内工作空间始终要与外界空气隔绝,尽量避免漏气和吸入空气,故要求炉壳,砌体,炉门及所有外界连接零件如风扇,热电偶,辐射管,推拉料机等采用密封装置。合肥真萍科技为您提供气氛炉的详细介绍。气氛炉规格尺寸

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电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的控制系统。一、控制系统1.采用数显微电脑温度控制器,控制精确可靠。2.具有定时功能、控温保护功能,设有风机停转开关。二、电气控制系统1.电气控制元件均采用国内有名品牌。2.电气线路设计新颖,合理布线,安全性可靠。3.箱体顶部为电器控制柜,方便于集中检查维修。宁波高温气氛炉合肥真萍电子科技有限公司经营气氛炉的定制。

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无氧干燥箱应用于航空、航天、石油、化工、、船舶、电子、通讯等科研及生产单位,主要作BPO胶/PI胶/BCB胶固化,模压固烤、IC(晶圆、CMOS、Bumping、TSV、MENS、指纹识别)、FPD、高精密电子元件、电子陶瓷材料无尘烘干,电工产品、材料、零备件等的高温洁净和无氧环境中干燥和老化试验。下面为大家介绍一下真萍科技无氧干燥箱。一、技术指标与基本配置:1.使用温度:RT~260℃,极限温度:300℃;2.炉膛腔数:2个,上下布置;3.炉膛材料:SUS304镜面不锈钢;加热元件:不锈钢加热器;热偶:K分度4.温度和氧含量记录:无纸记录仪;二、氧含量(配氧分析仪):1.高温状态氧含量:≤10ppm+气源氧含量;低温状态氧含量:≤20ppm+气源氧含量2.控温稳定度:1℃;2.3温度均匀度:2%℃(260℃平台);

电热鼓风烤箱适用于各种产品或材料及电气、仪表、元器件、电子、电工及汽车、航空、通讯塑胶、机械、食品、化工、化学品、五金工具在恒温环境条件下作干燥和各种恒温适应性试验。下面为大家介绍一下真萍科技电热鼓风烤箱的控制系统。一、控制系统1.采用数显微电脑温度控制器,控制精确可靠。2.具有定时功能、控温保护功能,设有风机停转开关。二、电气控制系统1.电气控制元件均采用国内出名品牌。2.电气线路设计新颖,合理布线,安全性可靠。3.箱体顶部为电器控制柜,方便于集中检查维修。气氛炉有什么特点?合肥真萍科技告诉您。

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本篇介绍专业全自动HMDS真空烤箱,首先简单介绍一下HMDS预处理系统的必要性:在半导体生产工艺中,光刻是集成电路图形转移重要的一个工艺环节,涂胶质量直接影响到光刻的质量,涂胶工艺也显得尤为重要。光刻涂胶工艺中绝大多数光刻胶是疏水的,而硅片表面的羟基和残留的水分子是亲水的,这造成光刻胶和硅片的黏合性较差,尤其是正胶,显影时显影液会侵入光刻胶和硅片的连接处,容易造成漂条、浮胶等,导致光刻图形转移的失败,同时湿法腐蚀容易发生侧向腐蚀。增黏剂HMDS(六甲基二硅氮烷)可以很好地改善这种状况。将HMDS涂到硅片表面后,经烘箱加温可反应生成以硅氧烷为主体的化合物。它成功地将硅片表面由亲水变为疏水,其疏水基可很好地与光刻胶结合,起着偶联剂的作用。气氛炉的制作方法难吗?合肥真萍科技告诉您。常州热风排胶气氛炉

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真空干燥箱是将干燥物料处于负压条件下进行干燥的一种箱体式干燥设备。它是利用真空泵进行抽气抽湿,使工作室内形成真空状态,降低水的沸点,加快干燥的速度。下面为大家介绍一下真萍科技真空干燥箱的特点。1.长方体工作室,增加有效容积,微电脑温度控制器,精确控温。2.双层玻璃视窗观察工作室内物体,一目了然。3.箱体闭合松紧能调节,整体成型的硅橡胶门封圈,确保箱内高真空度。4.工作室采用不锈钢板(或拉丝板)制成,确保产品经久耐用。5.储存、加热、试验和干燥都是在没有氧气或者充满惰性气体环境里进行,所以不会氧化。6.真空程序分段控制,该型号机型,抽真空过程可提供程序化编程,根据客户要求编辑设定真空值,保压时间值。可实现多段抽真空和保压编程。气氛炉规格尺寸

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